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    封裝基板鍍層膜厚儀

    簡(jiǎn)要描述:封裝基板鍍層膜厚儀在柔性電路板、芯片封裝環(huán)節、晶圓微區的鍍層厚度和成分自動(dòng)測試分析中盡顯優(yōu)勢主要利用X射線(xiàn)全反射原理,從X射線(xiàn)管激發(fā)出來(lái)的X射線(xiàn)束在毛細玻璃管的內壁以全反射的方式進(jìn)行傳輸,利用毛細玻璃管的彎曲來(lái)改變X射線(xiàn)的傳輸方向,從而實(shí)現X射線(xiàn)匯聚,同時(shí)將X射線(xiàn)的強度增加2~3個(gè)數量級。

    • 產(chǎn)品型號:XRF膜厚儀XAD-μ
    • 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
    • 更新時(shí)間:2023-10-26
    • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:344
    詳細介紹
    品牌SKYRAY/天瑞儀器價(jià)格區間10萬(wàn)-20萬(wàn)
    產(chǎn)地類(lèi)別國產(chǎn)應用領(lǐng)域醫療衛生,電子,航天,汽車(chē),綜合
    分辨率140EV元素分析硫(S)到鈾(U)
    外觀(guān)尺寸576(W)×495(D)×545(H)?mm樣品室尺寸500(W)×350(D)×140(H)?mm

    封裝基板鍍層膜厚儀

    封裝基板鍍層膜厚儀XRF應用多導毛細管技術(shù),輕松應對超小測量點(diǎn)薄涂層和極薄涂層的測量分析,在柔性電路板、芯片封裝環(huán)節、晶圓微區的鍍層厚度和成分自動(dòng)測試分析中盡顯優(yōu)勢。XAD-μ多導毛細聚焦XRF應用多導毛細管技術(shù),輕松應對超小測量點(diǎn)薄涂層和極薄涂層的測量分析,在柔性電路板、芯片封裝環(huán)節、晶圓微區的鍍層厚度和成分自動(dòng)測試分析中盡顯優(yōu)勢主要利用X射線(xiàn)全反射原理,從X射線(xiàn)管激發(fā)出來(lái)的X射線(xiàn)束在毛細玻璃管的內壁以全反射的方式進(jìn)行傳輸,利用毛細玻璃管的彎曲來(lái)改變X射線(xiàn)的傳輸方向,從而實(shí)現X射線(xiàn)匯聚,同時(shí)將X射線(xiàn)的強度增加2~3個(gè)數量級

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    主要利用X射線(xiàn)全反射原理,從X射線(xiàn)管激發(fā)出來(lái)的X射線(xiàn)束在毛細玻璃管的內壁以全反射的方式進(jìn)行傳輸,利用毛細玻璃管的彎曲來(lái)改變X射線(xiàn)的傳輸方向,從而實(shí)現X射線(xiàn)匯聚,同時(shí)將X射線(xiàn)的強度增加2~3個(gè)數量級。

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    儀器的高集成光路系統的基礎上,搭配多導毛細管 實(shí)現極小面積或極薄鍍層的高速、精確、穩定的測量,聚焦直徑可小至10μm

    ? 多導毛細聚焦技術(shù),可產(chǎn)生比準直器機構強千倍的信號強度

    ? 多導毛細管將激發(fā)光束非常高強度的集中在一個(gè)的小光斑上,從而顯著(zhù)縮短測量時(shí)間

    ? 在測量納米級Au厚度或薄膜層厚度及成分時(shí),滿(mǎn)足微小光斑、短測量時(shí)間的同時(shí),測量效果

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    測量精度更高:新開(kāi)發(fā)的光學(xué)器件的多導毛細管技術(shù)可對超微小區域及納米級薄層高精度測量

    超微小樣品檢測:精確測試最小測量點(diǎn)直徑可達10µm,全球測量微點(diǎn)技術(shù)

    測量效率高:高靈敏度、高解析度X熒光檢測系統搭配多導毛細管技術(shù),測量時(shí)間更短,能夠實(shí)現普通機型幾倍的檢測量

    適配性強:適用于各類(lèi)樣品尺寸的產(chǎn)品線(xiàn),如600*600mm大型印刷電路板

    操作體驗佳:高精細樣品觀(guān)察圖像,微區小至納米級別的分辨率,實(shí)現更快速便捷的測試

    自動(dòng)、智能:搭載可編程全自動(dòng)位移平臺,無(wú)人值守、自動(dòng)檢測樣品同時(shí)搭載影像識別功能,自動(dòng)判定測試位置ac06f7b843c8b4a6506ab25db3afca10_1665452369134723.jpg9212518c1566f0924fc4af4c329cc01e_1665452379123819.jpg

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